Monocrystalline silicon သည် တစ်ခုတည်းသော ပုံဆောင်ခဲပုံစံအဖြစ် ဆီလီကွန်ပစ္စည်း အားလုံးကို ပုံဆောင်ခဲအဖြစ် ရည်ညွှန်းသည်၊ လက်ရှိတွင် photovoltaic ပါဝါထုတ်လုပ်သည့်ပစ္စည်းများကို တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုနေသည်၊ monocrystalline silicon ဆိုလာဆဲလ်များသည် ဆီလီကွန်အခြေခံဆိုလာဆဲလ်များတွင် ရင့်ကျက်မှုအရှိဆုံးနည်းပညာဖြစ်ပြီး၊ polysilicon နှင့် amorphous silicon ဆိုလာဆဲလ်များနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက ၎င်း၏ photoelectric ပြောင်းလဲခြင်းစွမ်းဆောင်ရည်သည် အမြင့်ဆုံးဖြစ်သည်။ မြင့်မားသော ထိရောက်မှုရှိသော monocrystalline silicon ဆဲလ်များ ထုတ်လုပ်မှုသည် အရည်အသွေးမြင့် monocrystalline silicon ပစ္စည်းများနှင့် ရင့်ကျက်သော လုပ်ဆောင်မှုနည်းပညာကို အခြေခံထားသည်။
Monocrystalline silicon ဆိုလာဆဲလ်များသည် ကုန်ကြမ်းအဖြစ် 99.999% အထိ သန့်စင်သော monocrystalline silicon rods များကို အသုံးပြုထားသောကြောင့် ကုန်ကျစရိတ်လည်း တိုးမြင့်ပြီး အကြီးစားအသုံးပြုရခက်ခဲပါသည်။ ကုန်ကျစရိတ်သက်သာရန်အတွက်၊ monocrystalline silicon ဆိုလာဆဲလ်များ၏ လက်ရှိအသုံးချမှုအတွက် လိုအပ်ချက်များကို ဖြေလျှော့ပေးထားပြီး အချို့မှာ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာများနှင့် စွန့်ပစ်ပစ္စည်း monocrystalline silicon ပစ္စည်းများဖြင့် ပြုလုပ်ထားသော သို့မဟုတ် အချို့ဆိုလာဆဲလ်များအတွက် monocrystalline silicon အချောင်းများအဖြစ် ပြုလုပ်ထားသည်။ monocrystalline silicon wafer ကြိတ်ခြင်းနည်းပညာသည် အလင်းဆုံးရှုံးမှုကို လျှော့ချရန်နှင့် ဘက်ထရီ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ရန် ထိရောက်သောနည်းလမ်းဖြစ်သည်။
ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်ကို လျှော့ချရန်အတွက် ဆိုလာဆဲလ်များနှင့် အခြားမြေပြင်အခြေခံအသုံးချပလီကေးရှင်းများသည် နေရောင်ခြည်အဆင့်ရှိ မိုနိုခရစ်စတယ်လိုင်းဆီလီကွန်ချောင်းများကို အသုံးပြုကာ ပစ္စည်းစွမ်းဆောင်ရည်အညွှန်းများကို ဖြေလျှော့ပေးခဲ့သည်။ အချို့သူများသည် ဦးခေါင်းနှင့်အမြီးပစ္စည်းများနှင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာများဖြင့်လုပ်ဆောင်သော monocrystalline silicon စွန့်ပစ်ပစ္စည်းများကို ဆိုလာဆဲလ်များအတွက် monocrystalline silicon rods များပြုလုပ်ရန်လည်း အသုံးပြုနိုင်သည်။ monocrystalline silicon rod ကို ယေဘုယျအားဖြင့် အထူ 0.3 mm ခန့် အချပ်များ ဖြတ်ထားသည်။ ပွတ်တိုက်ခြင်း၊ သန့်ရှင်းရေးနှင့် အခြားလုပ်ငန်းစဉ်များပြီးနောက်၊ ဆီလီကွန်ဝေဖာကို စီမံဆောင်ရွက်ရန်အတွက် ဆီလီကွန်ဝေဖာကို ကုန်ကြမ်းအဖြစ် ပြုလုပ်သည်။
ပထမဆုံးအနေဖြင့် ဆီလီကွန် wafer doping နှင့် diffusion တွင် ဘိုရွန်၊ ဖော့စဖရပ်၊ ခနောက်စိမ်းစသည့် ပမာဏများအတွက် ယေဘုယျ သုံးစွဲမှု ပမာဏအတွက် ဆိုလာဆဲလ်များကို စီမံဆောင်ရွက်ခြင်း။ ပျံ့နှံ့မှုကို ကွမ်ဇိုင်းပြွန်များဖြင့် ပြုလုပ်ထားသော မြင့်မားသော အပူချိန်ပျံ့နှံ့သည့် မီးဖိုတွင် ပြုလုပ်သည်။ ၎င်းသည် ဆီလီကွန်ဝေဖာပေါ်တွင် P > N လမ်းဆုံကို ဖန်တီးပေးသည်။ ထို့နောက် စခရင်ပုံနှိပ်ခြင်းနည်းလမ်းကို အသုံးပြုပြီး ဂရစ်လိုင်းတစ်ခုပြုလုပ်ရန် ဆီလီကွန်ချစ်ပ်ပေါ်တွင် ငွေစင်ဖြင့်ရိုက်နှိပ်ကာ သန့်စင်ပြီးနောက် နောက်ကျောလျှပ်ကူးပစ္စည်းကို ပြုလုပ်ကာ မျက်နှာပြင်ကို ဆီလီကွန်ချစ်ပ်၏ချောမွေ့သောမျက်နှာပြင်မှ ဖိုတွန်အများအပြားပေါ်မလာခြင်းမှ ရောင်ပြန်ဟပ်မှုအရင်းအမြစ်တစ်ခုဖြင့် မျက်နှာပြင်ကို ဖုံးအုပ်ထားသည်။
ထို့ကြောင့်၊ monocrystalline silicon ဆိုလာဆဲလ်တစ်ချပ်ကို ဖန်တီးသည်။ ကျပန်းစစ်ဆေးပြီးနောက်၊ လိုအပ်သောသတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ ဆိုလာဆဲလ် module (solar panel) တစ်ခုထဲသို့ စုစည်းနိုင်ပြီး အချို့သော output voltage နှင့် current ကို series နှင့် parallel နည်းလမ်းများဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသည်။ နောက်ဆုံးတွင်၊ frame နှင့် material ကို encapsulation အတွက်အသုံးပြုသည်။ စနစ်ဒီဇိုင်းအရ၊ အသုံးပြုသူသည် ဆိုလာဆဲလ်အခင်းအကျင်းကို အရွယ်အစားအမျိုးမျိုးဖြင့် ဆိုလာဆဲလ်အခင်းအကျင်းအဖြစ် ပေါင်းစပ်နိုင်သည်။ monocrystalline silicon ဆိုလာဆဲလ်များ၏ photoelectric ပြောင်းလဲခြင်းထိရောက်မှုသည် 15% ခန့်ရှိပြီး ဓာတ်ခွဲခန်းရလဒ်များသည် 20% ထက်ပိုပါသည်။
တင်ချိန်- စက်တင်ဘာ- ၀၇-၂၀၂၃